您当前位置:首页 >> 印染
高荧光强度和光稳定性荧光染料研究取得进展
时间:2016-06-08 10:26:38    来源:科学新闻网  

记者刘万生通讯员徐兆超 67日,中科院大连化物所生物技术部徐兆超研究员带领团队,利用氮丙啶作为荧光团电子供体,有效抑制淬灭荧光和易使染料光漂白的分子内电荷转移态(TICT)的形成,获得了高荧光强度和光稳定性的系列新型荧光染料。相关成果发表在J. Am. Chem. Soc. 上。

荧光染料广泛应用于生物分子标记,通过所见即所得(seeing is believing)的方式跟踪生物分子,研究功能生物分子的位置和作用。荧光染料的光强度和光稳定性是影响成像质量的首要因素,特别是以超高分辨为技术支撑的单分子荧光成像的快速发展,对荧光染料的光强度和光稳定性提出了更高的要求。然而,现有的大多数荧光染料缺乏足够的光强度,少数高荧光强度的染料在光稳定性方面的不足限制了对细胞的长时间观察。理论研究证实,光照扭转分子内电荷转移(TICT)是荧光染料非辐射跃迁的主要方式。针对此问题,该研究团队通过实验与理论计算相结合的方式,将荧光染料中常用的电子供体二烷基胺变换为三元环的氮丙啶,由于氮丙啶巨大的环张力和空间位阻,有效的阻止了染料受光照激发后TICT态的形成,从而极大地提高了荧光强度和光稳定性。

上述工作得到国家自然科学基金优秀青年基金和面上项目的支持。

纺织中国在线版权及免责声明:


1、凡本网注明“来源:中国纺织报”的所有作品,版权均属于中国纺织报,未经本网授权,任何单位及个人不得转载、摘编或以其他方式使用上述作品。已经获得本网授权使用作品的,应在授权范围内使用,并注明“来源:纺织中国在线”。违反上述声明者,本网将追究其相关法律责任。
2、凡本网注明“来源:XXX(非中国纺织报)”的作品,均转载自其他媒体,转载目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点和对其真实性负责。
3、如因作品内容、版权和其它问题需要同本网联系的,请在30日内进行。

※ 有关作品版权事宜请联系:010-87751055